ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o.

Modernizace objektu V1

Rozsah prací: generální projektant a dodavatel
Zpracování PD: 08/2021 – 09/2024
Realizace stavby: 11/2021 – 03/2025

ON Semiconductor se zabývá inovativními řešeními pro energeticky úspornou elektroniku a nabízí ucelené portfolio polovodičových součástek a řešení, která mají široké využití v automobilovém průmyslu, komunikačních technologiích, počítačové a průmyslové technice, spotřební a lékařské elektronice, vojenství, letectví i v aplikacích pro napájení.

Pro novou high-tech výrobu polovodičových desek karbidu křemíku byl kompletně rekonstruován a rozšířen objekt V1 ve výrobním areálu onsemi.

Jako generální projektant jsme zpracovali projektovou dokumentaci v systému BIM, vč. provádění činností BIM koordinátora. Zajišťovali jsme inženýrské činnosti spojené s vyřízením stavebního povolení a následných změn stavby před jejich dokončením a se zajištěním zkušebního provozu a kolaudace stavby.

Jako generální dodavatel jsme zajišťovali kompletní realizaci stavebních prací, tzn. dodávku, montáž a kompletaci stavebních objektů a provozních souborů včetně vybudování více než 5 500 m2 čistých prostor. Při uvádění čistých prostor do provozu jsme prováděli kompletní zaregulování vzduchotechniky, chlazení, vytápění a kvalifikace čistých prostor.

Objekt V1 – brownfield byl z poloviny rekonstruován, tak aby zde byly vybudovány a spuštěny do provozu první čisté prostory ISO 7 v co nejkratším možném termínu do 4 měsíců od zahájení bouracích prací. V průběhu této rekonstrukce byla použita speciální technologie sanace vazníků pro statické zajištění objektu V1 a to stažením železobetonových vazníků střechy pomocí předepjatých lan.

Druhá polovina objektu byla v průběhu rekonstrukce první části zbourána a na jejím místě byla vybudována nová dvoupodlažní přístavba pro umístění čistých prostor ISO 3 – ISO 7.

Rekonstrukce původního objektu, výstavba jeho nové části a kompletní výstavba čistých prostor probíhaly etapovitě s postupným instalováním výrobní technologie. Čisté prostory byly etapovitě uváděny do provozu a stavební práce spojené s výstavbou dalších částí čistých prostor probíhaly již za provozu nové výroby.

Celková plocha nových čistých prostor třídy čistoty ISO 3 – ISO 9 (dle ISO 14644–1) je 5515 m2. Z toho celková plocha čistých prostor třídy čistoty ISO 3: 1068 m2, ISO 6: 92 m2, ISO 7: 3470 m2, ISO 8: 22 m2 a ISO 9: 863 m2).

Rozsáhlou součástí díla bylo ošetření prostor technikou prostředí (VZT, chlazení, topení, silnoproudé a slaboproudé rozvody, MaR, SHZ, technické plyny) a vybudování navazujících technologických zařízení, trafostanic, rozvoden VN a NN a prostor pro distribuci chemie, odpadové hospodářství a přečerpávací jímky. Tyto technologie byly umístěny v dalších nově vybudovaných přístavbách objektu V1.

Modernizovaný objekt V1 byl navržen jako energeticky úsporná budova s důrazem na snížení uhlíkové stopy objektu a jeho provozu.

Byla komplexně řešena problematika vlivů na životního prostředí. Byly zpracovány hlukové a rozptylové studie a odborné posudky na jejichž základě se provedla rozsáhlá protihluková a asanační opatření. Dále byl řešen proces Integrovaného povolení IPPC a povolení užívání vyjmenovaných zdrojů.